芯片|央视传来消息，中科院再次立功，ASML作出“反向”决定( 二 )
与此同时 ， 中科科美自研的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置也已投入使用 ， 值得一提的是 ， 这种装置可以制造光刻机所需的物镜 。
除此之外 ， 在清华大学朱煜教授的带领下 ， 华卓精科早在去年成功研制出双工件台 ， 且已应用在上海微电子光刻机上 ， 打破了外国人认为“中国人现在不能、未来也不可能造出工件台”的狂言妄语！
研究过EUV光刻机的朋友都知道 ， EUV光刻机是由EUV光源、物镜和双工件台三大核心组成 。 如今 ， 我国科学家已经逐步攻克这些技术难关 。
ASML作出“反向”决定世界光刻机制造巨头ASML公司首席执行官曾在今年三月份公开表示：如果不将光刻机卖给中国 ， 三年之后 ， 中国就会掌握光刻技术 ， 十五年之后 ， ASML公司或将从光刻机市场败退 。
然而 ， 让所有人没想到的是 ， 曾在过去一年之内五次示好我国市场 ， 并声称将克服一切困难将先进光刻机卖给中国企业的ASML公司 ， 在我国光刻机取得重大技术突破之际 ， 做了一个“反向”决定 。
近日 ， 据美媒报道 ， ASML公司正式做出决定 ， 将于2021年12月搬进位于美国东南部凤凰城钱德勒办公大楼 。 值得一提的是 ， 美国本土芯片制造巨头英特尔也在这个地方 ， ASML公司搬到这里 ， 意图非常明显 ， 帮助美国企业提升芯片制造能力 。
笔者认为 ， ASML公司做出的这个“反向”决定 ， 将会随着中国光刻机的崛起 ， 让其付出惨重的代价 ， 毕竟截止至目前 ， 还有没发生过一件中国人承诺而未兑现的事情 。
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