光刻机|“奇袭”荷兰ASML，日企攻克技术壁垒，绕开EUV光刻机，实现5nm( 二 )
毕竟如今上游原材料价格持续上涨 ， 全球缺芯潮持续蔓延 ， 若是能够利用NIL工艺取代光刻方案 ， 那么芯片制造成本将被大幅降低 ， 厂商自然也会因此掌握更大的利润空间 。
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