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近期美国IBM公司推出全球首个2nm的芯片 ， 借助2nm的工艺IBM将500亿个晶体管容纳在芯片上 ， 芯片的晶体管甚至要比DNA单链还要小 ， 这让人类正式在低纳米芯片上再次取得突破 。 根据相关的报道 ， 2nm芯片尤其需要EUV光刻机 ， 在传统的7纳米芯片的制造过程中 ， EUV光刻机仅仅用于芯片的中间和后端环节 ， 但2nm芯片大部分功能都需要使用EUV光刻机来进行刻蚀 。 这意味着EUV光刻机的重要性再次提升一个台阶 ， 各个芯片制造企业如果想要在2nm芯片上取得突破 ， 就必须拥有EUV光刻机的使用权利 。
值得一提的是 ， 根据IBM的官方数据显示 ， 2nm芯片的性能仅仅相较于7nm芯片提升45% ， 能耗方面则减少75% 。 如果使用2nm的技术应用于手机芯片制造 ， 能够让手机的续航时间延长很多 ， 如果再解决屏幕耗电的问题 ， 那么未来手机可能就不再需要每天充电了 。
鉴于2nm芯片处于刚刚研制成功的阶段 ， 相较于现在很多已经成熟的芯片方案来讲仍具有很强的可塑性 ， 其性能仍然具有可挖掘的潜力 。 不过 ， 从芯片制程提升的性能来讲 ， 2nm芯片仍然属于传统芯片的一环 ， 距离人类进入下一个芯片时代仍然存在着极大的差距 。
量子技术制成的量子芯片 ， 才可能是人类下一阶段性的主流芯片 。
未来的量子级别处理器 ， 有望使机器人可以像人类般具有独立思考的能力 ， 也能够开启人类
2nm芯片的研制成功也意味着传统芯片仍然没有走入停滞的阶段 ， 人类在纳米级别的芯片技术的研发上 ， 仍然具有很大的潜力 。
由于针对中国的限制 ， 中国仅仅拿到EUV光刻机的使用资格已经不易 ， 想要在2nm芯片制造上取得突破 ， 中国人就必须要有自己的EUV光刻机技术！
这意味着中国与国外的差距再一次被拉开 ， 我们如果不想要输得太惨 ， 就必须要加快前进的脚步 。 中国追赶上世界一流芯片制造的技术 ， 又增加了数倍的难度 ， 但我们不能够因为高山立于身前便停止前进 ， 正因为落后才更需要追赶 ， 高山的存在也意味着我们仍具有强大的发展潜力 。
【芯片|手机以后不用每天充电？IBM推全球首枚2nm芯片，能耗降低75%】（文/无笛）
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