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上一篇文章 ， 我们说了 ， 佳能在开发3D光刻机 ， 可以说在叠加芯片方向上 ， 又走出了坚实的一步 。 那么为什么佳能要朝这个方向努力？只能说ASML在EUV光刻机方面 ， 垄断能力太强了 ， 其他人很难追赶得上 ， 所以只能另辟蹊径 ， 例如通过3D光刻机制造横向纵向叠加的芯片 ， 以此来达到更好的性能 。
俄乌冲突之后 ， 欧美西方国家全方面制裁俄罗斯 ， 在半导体领域自然也是如此 ， 俄罗斯最大的半导体厂商米克朗也被美国制裁 。
据悉 ， 米克朗出口了俄罗斯微电子产品的 50%
2006年 ， 米克朗获得了欧洲半导体巨头意法半导体的技术转让 ， 从此具备生产0.18μm芯片的能力 ， 后来又在此基础上 ， 于2008年和2009年分别实现130nm和90nm工艺 ， 到了2016年 ， 实现了65nm 。 目前 ， 米克朗也是唯一一家能量产65nm制程的俄罗斯本土企业 。
其实 ， 俄罗斯的芯片采购量很低 ， 还不到全球总量的1% ， 但也没能摆脱美国的霸权打击 。所以 ， 俄罗斯决心开始开发光刻机 。
近日 ， 俄罗斯宣布将投资6.7亿卢布 ， 折合成人民币约5100万元 ， 开发新一代的光刻机 ， 并且俄罗斯莫斯科电子技术学院已经承接了该项任务 。
俄罗斯媒体报道称：俄罗斯将研发当前全球最先进的X射线光刻机 ， 或比ASML的EUV光刻机性能更先进 。
看到这个消息 ， 很多人会有2个疑问 。 一是这个钱够吗？才5100万 。 二是真的能超过EUV光刻机吗？甚至觉得这个消息有点扯 。
大家也别着急 。
【光刻机|俄罗斯投资6.7亿卢布，开发新型的光刻机，性能或将超越EUV光刻机】首先在钱的问题上 ， 这次的6.7亿卢布是首批资金 ， 后面应该还会有投入 。 至于花多少钱办多少事儿 ， 或许一家一个样吧 ， 暂时也不好评论 。 另外 ， 如果钱实在不够 ， 俄罗斯也可以多卖点石油天然气 ， 还可以涨点价再卖 ， 反制这2个东西有的是 。
其次 ， 俄罗斯研发的光刻机 ， 只是计划达到EUV级别 ， 并非EUV光刻机 ， 二者的技术原理完全不同 ， 所有美国和ASML没法限制 。
另外俄罗斯的X射线光刻机是基于同步加速器或等离子体源的无掩模X射线光刻机 ， 甚至在某些地方 ， 要比EUV光刻机好 。
目前 ， 俄罗斯莫斯科电子技术学院与其他科研机构以及科学家团队 ， 在无掩模光刻领域方面取得了进展 。 同时 ， 还有泽列诺格勒的同步加速器 ， 以及先进的离子源 ， 所以俄罗斯媒体也很有信心地公开表示 ， 这种光刻机将实现28nm、16nm及以下的工艺制程 。
那么X射线能用来光刻吗？
其实这种技术很早就有了 ， 不论是美国、欧洲还是我国 ， 都研制过X射线光刻机 ， 但因为效率差 ， 一般只适合特定场景的芯片制造 ， 不适合量产场景 ， 所以X射线光刻机一直没能取得大范围的推广和应用 。
X射线大家肯定不陌生 ， 在医院里很常见 ， 很难想象它能应用到光刻机领域 。 但很多人可能没想到 ， X射线的波长比EUV极紫外光还要短 。
X射线光刻机使用的是X射线 ， 其波长介于0.01nm到10nm之间 ， 而EUV光刻机使用的是极紫外光波长为13.5nm ， 可以用于制造7nm及以下的芯片 ， 所以单纯看数据 ， X射线光刻机是可以达到EUV光刻机的工艺水平的 。
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